首套應用于PEM電解槽中的PVD鍍膜設備將投入運行
來自于馮阿登納的用于全尺寸 PEM 電解槽組件生產(chǎn)的首套鍍膜設備即將安裝完成。HISS600 是行業(yè)中第一套使用物理氣相沉積 (PVD) 技術進行全天生產(chǎn)的鍍膜設備。HISS600使用磁控濺射技術使旋轉(zhuǎn)靶上的貴金屬進行沉積，具有很高的靶材利用率。通過沉積后的涂層可顯著降低界面接觸電阻和穿透平面電阻(ICR/TPR)，并在電解陽極電位下提供腐蝕保護。這套設備將于 2024 年年中投入使用。
那么為什么選擇PVD鍍膜技術呢?
與電鍍等其他技術相比，PVD 技術可實現(xiàn)更薄的鍍層，從而降低貴金屬的消耗，提高鍍層的成本效益。
客戶為何選擇馮阿登納?
馮阿登納擁有真空鍍膜設備行業(yè)多年的技術積累，可以滿足客戶們高度靈活性的要求。在此同時，馮阿登納在氫能行業(yè)的技術積累和經(jīng)驗也被看重。此外，HISS600 在其他行業(yè)的良好表現(xiàn)也起到了關鍵作用。
HISS600有何特別之處?
HISS600 可以為雙極板和多孔傳輸層鍍膜，年累計疊加功率可達千兆瓦級，同時還符合智能制造的工業(yè) 4.0 標準。由于采用了非常靈活的模塊化設計，使得我們的設備平臺可以根據(jù)客戶的不同階段、不同要求進行配置。
（來源：VONARDENNE）
